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硅片清洗废水回用

文章作者：莱特莱德发布时间：2022-08-11

近年来，硅片产业发展迅速。硅片是制造晶体管和集成电路的原材料。换句话而言，就是硅片是芯片制造的原材料。通常是晶硅的切片，通过光刻和离子注入的方法制成各种半导体器件，是半导体工业中重要的原材料。随着硅片工业的蓬勃发展，环境污染问题随之而来，产生了大量的废水。生产废水主要来自多晶硅锭切片过程的清洗环节。多晶硅锭经混酸表面处理后，在清洗过程中产生含酸废水。由于表面处理是硝酸和氢氟酸的混合酸，清洗废水中的主要污染物是pH、氟化物和钙盐。

采用双级反渗透系统对清洗废水进行深度处理。通过预处理降低钙离子和氟离子含量后，可满足超滤系统进水要求。废水进入超滤系统，超滤产水进入一级反渗透处理系统，产水进入产水箱，浓水进入二级反渗透系统进一步回收。

膜法硅片清洗废水处理工艺：

硅片清洗废水→预处理→超滤→一级反渗透→二级反渗透→产水

两级反渗透系统法回用硅片清洗废水中醋酸的过程是纯物理常温操作工艺，无化学反应，能耗低。整套反渗透系统可设计在线再生清洗排污装置，降低劳动强度和生产成本，提高生产效率。反渗透系统总回收率控制在75%左右，实现有效回收。膜元件填充面积大，系统占地面积小，便于技术改造、扩建或新建项目，降低了生产成本和投资。

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